Category:Metalorganic vapour-phase epitaxy

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<nowiki>Deposición de vapor mediante procesos químicos organometálicos; 有機金属気相成長法; Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques; MOCVD; Deposisi Uap Kimia Metal Organik (MOCVD); MOCVD; MOVPE; metaalorganische gasfase-epitaxie; Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы; Deposició de vapor mitjançant processos químics organometàl·lics; Metallorganische Gasphasenepitaxie; برآرایی بخار فلز-آلی; metalorganic vapour phase epitaxy; تنضيد المركبات العضوية الفلزية في الطور البخاري; 有机金属化学气相沉积法; אפיטקסיה מפאזת אדים אורגנומתכתיים; метод химического осаждения; 原料として有機金属やガスを用いた結晶成長方法、及びその装置; Epitaxieverfahren zur Herstellung von kristallinen Schichten; method of producing thin films (polycrystalline and single crystal); és un mètode de deposició de vapor químic utilitzat per produir pel·lícules primes simples o policristalines.; techniek voor het produceren van thin films; MOVPE; MOCVD; Deposicion de vapor mediante procesos quimicos organometalicos; Deposición de vapor mediante procesos químicos organometalicos; Deposición de vapor mediante procesos quimicos organometálicos; Deposicion de vapor mediante procesos químicos organometálicos; Deposición de vapor mediante procesos quimicos organometalicos; Deposicion de vapor mediante procesos químicos organometalicos; Deposicion de vapor mediante procesos quimicos organometálicos; MOCVD; MOVPE; 有機金属気相成長; Metalorganic vapour phase epitaxy; MOVPE; Metalorganic chemical vapor deposition; MOCVD; MOVPE; MOVPE; OMVPE; Metalorganic vapour phase epitaxy; MOCVD; Металлорганический CVD; Химическое осаждение из паров металлорганических соединений; OMVPE; MOVPE; Metal organic chemical vapor phase epitaxy; Organo-metallic vapor phase epitaxy; OMVPE; metalorganic chemical vapour deposition; MOCVD; MOCVD; 有機金屬化學汽相沉積法; 有機金屬化學氣相沉積; MOVPE; MOVPE; OMVPE</nowiki>
metalorganic vapour phase epitaxy 
method of producing thin films (polycrystalline and single crystal)
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